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類別:大型真空等離子清洗機
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電源系統(tǒng) |
射頻電源 |
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功率 |
0~600W |
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頻率 |
13.56MHz |
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真空系統(tǒng)
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雙級旋片泵(油泵) |
16m3/h |
真空管路 |
全不銹鋼管路,以及高強度真空波紋管 |
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材質 |
鋁合金(可定制不銹鋼腔體) |
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厚度 |
25mm |
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密封性 |
軍工級焊接密封 |
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腔體內部尺寸 |
20升 |
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可用空間間距 |
22.5mm |
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電極板布置方式 |
水平布置,可活動抽取 |
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工作托盤 |
鋼絲網 |
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氣體系統(tǒng) |
流量范圍 |
0~300SCCM |
工藝氣體氣路 |
標配兩路,可定制 |
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控制系統(tǒng) |
系統(tǒng)控制 |
PLC |
交付方式 |
7寸觸控屏幕 |
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其它參數 |
外形尺寸 |
900×1600×900mm(寬×高×深) |
重量 |
150KG |
1?
設備構成及特點
本等離子體表面處理系統(tǒng)主要包括三個部分: 真空腔及真空系統(tǒng)、 等離子體發(fā)生器、 控制系統(tǒng)。
2?
真空腔及真空發(fā)生系統(tǒng)
真空腔固定于機柜框架內,左右兩側為可拆門,因此內部的真空腔及真空系統(tǒng)的維修是極方便的。真空發(fā)生系統(tǒng)由波紋管、KF 接頭、真空泵以及油霧過濾器組成,此泵維護簡單方便,抽速穩(wěn)定,
質量耐用,保養(yǎng)時,每次按照用量來更換真空泵油,并妥善處理廢棄油品;保養(yǎng)和維護請按照泵的使用說明書進行。
3?
等離子體發(fā)生器
等離子體發(fā)生器在 20Pa-100Pa 間給電極板施加電壓,產生低溫等離子體。利用高頻轉換技術形成高頻電壓加到電極板上,當真空腔內達到一定真空度時,產生等離子體放電現象,放電后電路會自
動調節(jié)電壓到適當值,保證電路正常穩(wěn)定放電。
行業(yè)應用
手機行業(yè):TP、中框、后蓋表面清洗活化
PCB/FPC行業(yè):孔內鉆污及表面清潔、Coverlay表面粗化及清潔
半導體行業(yè):半導體封裝、攝像頭模組、LED封裝、BGA封裝、Wire Bond前處理
?陶瓷:封裝、點膠前處理
表面粗化蝕刻:PI表面粗化、PPS蝕刻、半導體硅片PN結去除、ITO膜蝕刻
塑膠材料:Teflon特氟龍表面活化、ABS表面活化、以及其他塑料材質清洗活化
ITO涂覆前表面清洗
概述:是正離子和電子密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成,是物質的第四態(tài)。人們普遍認為的物質有三態(tài):固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。區(qū)分這三種狀態(tài)是靠物質中所含能量的多少。給氣態(tài)物質更多的能量,比如加熱,將會形成等離子體,在宇宙中99.99%的物質處于等離子狀態(tài)。
清洗原理:通過化學或物理作用對工件表面進行處理,實現分子水平的污染物去除(一般厚度為3~30nm),從而提高工件表面活性。被清除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應不同的污染物,應采用不同的清洗工藝,根據選擇的工藝氣體不同,等離子清洗分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。
化學清洗:表面反應以化學反應為主的等離子體清洗,又稱PE。
例1:O2+e-→ 2O※ +e-? ? ?O※+有機物→CO2+H2O
從反應式可見,氧等離子體通過化學反應可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。
例2:H2+e-→2H※+e-? ? ? H※+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O
從反應式可見,氫等離子體通過化學反應可以去除金屬表面氧化層,清潔金屬表面。
物理清洗:表面反應以物理反應為主的等離子體清洗,也叫濺射腐蝕(SPE)。
例:Ar+e-→Ar++2e-? ? ? ?Ar++沾污→揮發(fā)性沾污
Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產生動能,然后轟擊在放在負電極上的被清洗工件表面,一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹脂溢出或是微顆粒污染物,同時進行表面能活化。
物理化學清洗:表面反應中物理反應與化學反應均起重要作用。
等離子清洗設備
等離子清洗設備的原理是在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用射頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的離子,然后與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質,然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質清除出去,從而達到表面清潔活化的目的。是清洗方法中最為徹底的剝離式清洗,其最大優(yōu)勢在于清洗后無廢液,最大特點是對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地處理,可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。