等離子清洗設(shè)備的基本構(gòu)造：
　　根據(jù)用途的不同，可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備，并可通過(guò)選用不用種類的氣體，調(diào)整裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的，一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點(diǎn)擊、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工作傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常用13.56MHz的無(wú)線電波，設(shè)備的運(yùn)行過(guò)程如下：
　　（1）被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開(kāi)始排氣，使真空室的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。
　?。?）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100pa。根據(jù)清洗材質(zhì)的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮?dú)獾葰怏w。
　?。?）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過(guò)輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開(kāi)始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
　?。?）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入氣體，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓。